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VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。備有三個(gè)靶槍和三個(gè)電源，一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備，適用于在 PET 和無(wú)紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設(shè)備采用*的磁控濺射鍍膜技術(shù)，配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng)，適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統(tǒng)配置三個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源通過(guò)轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)可以分別連接至任一靶頭，用于各類靶材的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)

VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。

小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成。粉末在振動(dòng)樣品臺(tái)上振動(dòng)翻滾，通過(guò)濺射在粉末表面進(jìn)行包覆形成核殼結(jié)構(gòu)。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。（更新日期2019.1.10）

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個(gè)2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會(huì)因鍍膜溫度過(guò)高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，可以使樣品邊旋轉(zhuǎn)邊鍍膜，使鍍膜后的樣品表面膜厚均勻。設(shè)備外形小巧，性價(jià)比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。VTC-16-SM小型高能