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VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng)，包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng)，水冷設(shè)備，磁控濺射靶頭，不銹鋼腔室等。

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。可選配多個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜