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1100℃多工位管式爐GSL-1100X-S是小口徑管式爐，專為制備小型樣品而設(shè)計Z高溫度可達1100℃。爐體可垂直或水平放置，以滿足不同的應用，如樣品加熱、VSL、CVD 、淬火試驗等。

1100℃帶校準系統(tǒng)管式爐GSL-1100X-50-LVT是分體式真空管式爐，配有 OMEGA 測溫儀及K 型熱電偶一套，將K型熱偶從左端法蘭安裝于爐管內(nèi)部，即可在OMEGA測溫儀上讀取樣品實時溫度。采用30段可編程溫度控制儀，可根據(jù)實驗要求設(shè)置所需要的升溫速率。但要注意爐體在加熱過程中真空度不能高于10-2torr，否則容易造成爐管的損壞 。

6″單溫區(qū)CVD真空管式爐GSL-1100X-6-S是一款爐管內(nèi)徑為6″的真空管式爐，可以在不同氣氛下，在Z大5″的基片上生長多種薄膜。

8.5″單溫區(qū)CVD真空管式爐GSL-1100X-8.5-S是一款爐管外徑為8.5″ 的真空管式爐，可以在不同氣氛下，在Z大6″的基片上生長多種薄膜。

8.5″帶滑動法蘭真空管式爐GSL-1100X-8.5-SR是三溫區(qū)滑軌真空管式爐，可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下，在Z大6″的基片上生長多種薄膜。

1100℃三溫區(qū)8.5″管式爐GSL-1100X-8.5-III是三溫區(qū)大尺寸系列管式爐，石英管外徑為 8.5″，加熱管一端設(shè)有一對高真空不銹鋼法蘭，法蘭上配有機械壓力表和閥門。本機廣泛用于材料或化學實驗室的材料燒結(jié)或退火（在真空或惰性氣體環(huán)境下），是一款理想的退火、擴散、燒結(jié)設(shè)備。