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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

簡要描述:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-02-27
  • 訪  問  量:2252

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域地礦

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。

產(chǎn)品名稱VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號
VTC-600-2HD
安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要
主要參數(shù)
1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:900W
3、腔體內(nèi)徑:?300mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個直流電源,也可選擇兩個射頻電源,或選則一個直流一個射頻電源)
10、載樣臺:?140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。
11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
12、工作氣體:Ar等惰性氣體
13、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進(jìn)氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
產(chǎn)品規(guī)格

1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、真空室規(guī)格:φ300×300mm
4、重量:160kg


序號名稱數(shù)量圖片鏈接
1直流電源控制系統(tǒng)
1套
2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套-
3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)
1套

-

4分子泵(德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速)
1臺-
5冷水機(jī)
1臺-
6聚酯PU管(?6mm)
4m-

序號
名稱
功能類別
圖片鏈接
1

金、銦、銀、鉑等各種靶材

(可選)
-
2可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜
(可選)
-
3

雙層旋轉(zhuǎn)鍍膜夾具

(可選)


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