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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
1100℃高壓爐OTF-1200X-60UV爐管采用鎳基合金鋼制作而成，抗氧化性較強(qiáng)，Z高溫度可達(dá)1100℃，Z大真空度可達(dá)10-6 torr，可在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣。
1100℃高壓爐OTF-1200X-HP-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，Z高壓力高達(dá)20MPa，Z高溫度可達(dá)1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護(hù)氣體，是用于高壓制備新材料，以及作為小型熱等靜壓處理合金樣品的理想設(shè)備。
真空熱壓爐OTF-1200X-VHP4是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5T壓力下可鍵合多層基片。本機(jī)可以加熱到1100 ℃，并設(shè)有30段控溫程序。
RC-Ti-100小型鈦金屬反應(yīng)釜是由純鈦金屬制作而成，Z大可耐4Mpa的壓力，是制備*材料，尤其是水熱法合成生物材料的理想工具。
SKJ-50晶體生長(zhǎng)爐是用提拉法生長(zhǎng)高質(zhì)量氧化物單晶及金屬單晶，如藍(lán)寶石、GGG、YAG、SrLaAlO4、LaAlO3、Si、Ge等，Z大可長(zhǎng)出晶體尺寸達(dá)3“ 。
SKJ-M50-16金屬晶體生長(zhǎng)爐是用坩堝下降法生長(zhǎng)金屬晶體的設(shè)備，可在真空、大氣、惰性氣體或其他保護(hù)氣氛下、在可控的局部壓力狀態(tài)下運(yùn)行。根據(jù)金屬的屬性，本機(jī)可采用中頻感應(yīng)加熱電源，以及石墨電阻加熱兩種加熱方式；采用歐陸微處理器與熱電偶閉環(huán)控制爐溫，使結(jié)晶體按照一定的直徑進(jìn)行控制。
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