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ZKXB-A真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對樣件造成損壞?？膳cVTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。

ZKXB-B真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對樣件造成損壞?？膳cVTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。

該自動鈣鈦礦涂膜系統(tǒng)采用自動吸液注液方式，注液后在基片表面自動旋涂出一層薄膜，旋涂后移動基片至烤膠機表面進行薄膜烘干。液體可進行攪拌防止沉淀，如需加熱可對液體進行加熱操作。整個操作過程在11寸觸摸屏上進行設置，操作直觀方便。該設備適用于大專院校及科研實驗室進行的鈣鈦礦薄膜及其他液體薄膜的研究，可根據(jù)客戶各種要求進行設備定制。

VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現(xiàn)滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成

VTC-100PAH真空旋轉涂膜機適用于半導體工藝、晶體、光盤、制版等表面涂膜制備。VTC-100PAH真空旋轉涂膜機是一款高性能精密勻膠機，采用了優(yōu)良的設計理念，配合精密的運動控制系統(tǒng)，可以實現(xiàn)高精度、高均勻度的勻膠操作。設備腔體采用聚丙烯材質，具有耐熱性、電絕緣性、和良好的高耐磨加工性能等特點。本機腔體不可抽真空，工作時利用真空吸盤及氣路管線與外部真空泵相連，能很好的將樣件牢固的吸附在載樣盤上

VTC-100PA-II真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。